ST0941 هدف التفريغ لسبائك النيكل والأنتيمون، NiSb

وصف هدف التفريغ Nickel Antimonide

يعتبر هدف التفريغ Nickel Antimonide، NiSb، مادة متخصصة مصنعة بتكوين دقيق من NiSb. تم تصميم هذا الهدف لتحقيق أداء عالٍ في عمليات ترسيب التفريغ، مما يوفر نتائج متسقة في تصنيع الأفلام الرقيقة. مع نقطة انصهار تبلغ 1102 درجة مئوية وكثافة 8.56 جرام/سم³، فإنه يوفر استقرارًا حراريًا ممتازًا ونزاهة ميكانيكية. هو مثالي للاستخدام في التطبيقات الصناعية المتقدمة، حيث أن أشكاله المخصصة ونقاوته العالية (≥99%) تجعله خيارًا موثوقًا لتطبيقات حيوية في تصنيع أشباه الموصلات، وتغطيات بصرية، وعمليات هندسة سطح أخرى.

تطبيقات هدف التفريغ Nickel Antimonide

· ترسيب الأفلام الرقيقة: مُحسن لإنشاء أفلام رقيقة متساوية في تقنيات أشباه الموصلات والعرض.
· تغطيات بصرية: توفر أداءً ممتازًا في تصنيع الطلاءات العاكسة وغير العاكسة.
· هندسة السطح: تعزز الخصائص السطحية للتطبيقات المتعلقة بمقاومة التآكل والحماية من التآكل.
· الإلكترونيات المتقدمة: مثالي لتصنيع المكونات التي تتطلب خصائص مادية دقيقة وموصلية عالية.

تعبئة هدف التفريغ Nickel Antimonide

يتم إعداد وتعبئة أهداف التفريغ Nickel Antimonide بعناية تحت ظروف مسيطر عليها للحفاظ على سلامة المنتج. يتم تغليف كل هدف في فراغ ومن ثم تعبئته بشكل آمن، مع أوزان قياسية متاحة بأحجام مخصصة وفقًا لمتطلبات العملاء.

الأسئلة المتكررة

س: ما هي التطبيقات الصناعية الرئيسية لهدف التفريغ Nickel Antimonide؟
ج: يُستخدم بشكل أساسي في ترسيب الأفلام الرقيقة لأشباه الموصلات، والتغطيات البصرية، وهندسة السطح في الإلكترونيات المتقدمة.

س: ما هو تكوين هذا الهدف للتفريغ؟
ج: يتكون الهدف من NiSb بمستوى نقاء يبلغ ≥99%.

س: هل يمكن تخصيص شكل الهدف؟
ج: نعم، يمكن إنتاج أشكال مخصصة لتلبية متطلبات تطبيق محددة، بالإضافة إلى الأقراص القياسية.

س: كيف تعود الفائدة من نقطة الانصهار العالية على عملية التفريغ؟
ج: توفر نقطة الانصهار البالغة 1102 درجة مئوية استقرارًا حراريًا ممتازًا، مما يضمن أداءً متسقًا خلال عمليات الترسيب عند درجات حرارة عالية.

س: ما نوع الرابطة المستخدمة في إنتاج هذا الهدف للتفريغ؟
ج: يستخدم الهدف رابطة إنديوم، مما يعزز أداؤه خلال عملية الترسيب بالتفريغ.