ست_target من نيوبيوم سيليسيد (NbSi2)

وصف هدف سبك السيليسيوم النيوبيوم (NbSi2)

هدف سبك السيليسيوم النيوبيوم (NbSi2) مصمم لأداء فائق في عمليات الترسيب المفرغ. مصنّع بكثافة محددة ونقطة انصهار تبلغ 1950℃، يوفر هذا الهدف استقرارًا حراريًا ممتازًا واتساقًا. تضمن نقاوته العالية (≥99%) جودة الفيلم المثلى والانتظام، مما يجعله خيارًا مفضلًا للتطبيقات الحرجة في تصنيع أشباه الموصلات، تكنولوجيا العرض، والأجهزة الشمسية. المنتج متاح في شكل أقراص أو يمكن تصنيعه وفقًا لمتطلبات صناعية محددة.

تطبيقات هدف سبك السيليسيوم النيوبيوم (NbSi2)

· ترسيب الأفلام الرقيقة: مثالي لأجهزة أشباه الموصلات، الدوائر المتكاملة، ومكونات الميكروإلكترونيات.
· تصنيع العروض: يُستخدم في ترسيب الطبقات الموصلية أو الواقية للشاشات المسطحة.
· الخلايا الشمسية: يساعد في إنشاء أفلام رقيقة عالية الجودة ومتسقة حاسمة للتطبيقات الكهروضوئية.
· تقنيات الطلاء المتقدمة: مناسب للتطبيقات التي تتطلب طلاءات قوية في بيئات ذات درجات حرارة عالية.

تغليف هدف سبك السيليسيوم النيوبيوم (NbSi2)

يتم تغليف هدف سبك السيليسيوم النيوبيوم تحت ظروف غرفة نظيفة خاضعة للرقابة لضمان جودته وسلامته. تتوفر خيارات تغليف مخصصة بناءً على متطلباتك لضمان النقل والتخزين الآمنين.

الأسئلة الشائعة

س: ما هو التطبيق الموصى به لهدف سبك السيليسيوم النيوبيوم (NbSi2)؟
ج: هو مثالي لعمليات الترسيب المتقدمة للأفلام الرقيقة المستخدمة في تصنيع أشباه الموصلات، والعروض، والخلايا الشمسية.

س: ما هو مستوى النقاء الذي يقدمه هدف سبك NbSi₂؟
ج: يقدم المنتج مستوى نقاء مرتفعًا يبلغ ≥99%.

س: هل يمكن تخصيص هدف السبك من حيث الشكل والحجم؟
ج: نعم، الهدف متاح في شكل أقراص أو يمكن تصنيعه وفقًا لمتطلبات العملاء المحددة.

س: ما هي مواصفات نقطة الانصهار والكثافة لهذا الهدف؟
ج: يحتوي الهدف على نقطة انصهار تبلغ 1950℃ مع كثافة تتراوح بين 5.53 إلى 5.7 غ/cm³.

س: هل يعتبر هذا الهدف مناسبًا للتطبيقات ذات درجات الحرارة العالية؟
ج: بالتأكيد، تضمن نقطة انصهاره العالية أداءً ممتازًا حتى في بيئات ذات درجات حرارة عالية.