ست_target للتسطيح - MoSi2 Silicide Molybdenum ST0264

وصف هدف الترسيب موليبدينوم سيلسايد (MoSi2)

تم تطوير هدف الترسيب موليبدينوم سيلسايد (MoSi2) باستخدام تقنيات معالجة المواد المتقدمة لتقديم منتج يضمن درجة عالية من الانتظام والأداء في عمليات الترسيب. إن نقطة الانصهار العالية والكثافة الممتازة تجعله مرشحًا مثاليًا للتطبيقات المت demanding في微electronics، وخلايا الشمس، وتقنيات الطلاء الدقيقة الأخرى. تضمن القدرة على الترسيب RF تآكل الهدف بكفاءة وترسيب فيلم رقيق متسق، مما يمكّن من جودة فيلم ممتازة وأداء جهاز عالٍ.

تطبيقات هدف الترسيب موليبدينوم سيلسايد (MoSi2)

· أجهزة أشباه الموصلات: تستخدم في ترسيب الأفلام الرقيقة للم微electronics والدوائر المتكاملة.
· خلايا الشمس: توفر طلاءات متينة ومستقرة لتعزيز امتصاص الضوء والكفاءة.
· التصنيع الدقيق: مثالية لإنشاء طبقات فيلم دقيقة وموحدة في تطبيقات MEMS وأجهزة الاستشعار.
· طلاءات السطح: تستخدم في عمليات الطلاء المتقدمة لمنح مقاومة للتآكل وثبات حراري لمختلف الركائز.

تعبئة هدف الترسيب موليبدينوم سيلسايد (MoSi2)

يتم تعبئة هدف الترسيب موليبدينوم سيلسايد (MoSi2) بعناية فائقة للحفاظ على سلامته وأدائه أثناء التخزين والنقل. تتوفر خيارات تعبئة مخصصة لتلبية متطلبات العملاء المحددة. تشمل التعبئة القياسية حاويات محكمة الإغلاق مصممة للحماية من التلوث والإجهاد الميكانيكي.

الأسئلة الشائعة

س: ما هي الطريقة الموصى بها لترسيب هدف MoSi2؟
ج: يُوصى باستخدام الترسيب RF لتحقيق الأداء الأمثل مع هدف MoSi2.

س: ما هي الأشكال المتاحة لهدف الترسيب MoSi2؟
ج: الهدف متوفر كأقراص أو يمكن تصنيعه حسب الحاجة لتلبية متطلبات التطبيق المحددة.

س: ما هي مستوى النقاء المضمون لهذا الهدف للترسيب؟
ج: هدف الترسيب MoSi2 لديه نقاء مضمون لا يقل عن 99٪.

س: كيف تفيد نقطة الانصهار العالية عملية الترسيب؟
ج: تضمن نقطة الانصهار العالية (2030℃) ثباتًا حراريًا ممتازًا وتمكّن من ترسيب فعال، حتى في ظروف الطاقة العالية.

س: كيف يجب تخزين هدف الترسيب قبل الاستخدام؟
ج: يُوصى بتخزين الهدف في بيئة نظيفة وجافة مع تعبئة مناسبة (مثل الحاويات المحكمة) لمنع التلوث وضمان الأداء الأمثل.