غير متوفر (غير متوفر) ST0261 هدف رش السليكون الهفني (HfSi2)

وصف هدف التبخير هافنيوم سيلسيد (HfSi2)

يتم تصميم هدف التبخير هافنيوم سيلسيد (HfSi2) بدقة لتحقيق الأداء الأمثل في تطبيقات التبخير. بتركيبته من HfSi₂ ونقاء ≥99%، يوفر هذا الهدف نتائج موثوقة ومتسقة في ترسيب الأفلام الرقيقة. متاح في أشكال أقراص قياسية أو تكوينات مصممة حسب الطلب، يلبي احتياجات صناعية متنوعة. تضمن خصائصه الفيزيائية، بما في ذلك نقطة انصهار تبلغ 1680℃ وكثافة 8.02 جرام/سم³، الاستقرار والكفاءة في البيئات عالية الحرارة، مما يجعله مثاليًا لصناعة أشباه الموصلات، والطلاءات السطحية، وتطبيقات البحث.

تطبيقات هدف التبخير هافنيوم سيلسيد (HfSi2)

· صناعة أشباه الموصلات: أساسي للإيداع الدقيق للأفلام الرقيقة في الدوائر المتكاملة.
· الطلاءات السطحية: مثالي لتقنيات الطلاء المتقدمة في التطبيقات الصناعية.
· البحث والتطوير: يستخدم في المختبرات لاصطناع المواد وتقنيات الإيداع التجريبية.
· الإلكترونيات المتقدمة: يدعم تصنيع أجهزة الميكروإلكترونيات عالية الأداء بخصائص مواد ممتازة.

تغليف هدف التبخير هافنيوم سيلسيد (HfSi2)

يتم تعبئة أهداف التبخير هافنيوم سيلسيد (HfSi2) بعناية لضمان سلامة المنتج أثناء التخزين والنقل. تشمل الخيارات التعبئة المحكمة في فراغ للكميات القياسية وحلول مخصصة مصممة لتلبية متطلبات العملاء المحددة.

الأسئلة الشائعة

س: ما التطبيقات الأنسب لأهداف التبخير هافنيوم سيلسيد (HfSi2)؟
ج: يتم استخدامها بشكل مثالي في صناعة أشباه الموصلات، والطلاءات السطحية، والبحث والتطوير، وتصنيع الإلكترونيات المتقدمة.

س: كيف يتم الحفاظ على النقاء العالي للهدف؟
ج: يتم تصنيع الهدف بنقاء ≥99%، مما يضمن جودة وأداء متسقين في التطبيقات الصعبة.

س: هل يمكن تخصيص حجم هدف التبخير؟
ج: نعم، الأحجام المخصصة متاحة لتلبية متطلبات التصميم والاستخدام المحددة.

س: ما أهمية أن تكون نقطة الانصهار 1680℃؟
ج: تضمن نقطة الانصهار التي تبلغ 1680℃ أن المادة تستطيع تحمل العمليات عالية الحرارة التي تُستخدم عادة في تطبيقات التبخير الصناعية.

س: كيف ينبغي تخزين أهداف التبخير؟
ج: يجب تخزين الأهداف في بيئة باردة وجافة والتعامل معها وفقًا للإرشادات المقدمة للحفاظ على سلامتها وأدائها.