ST0227 هدف الطلاء بالرذاذ من كربيد السيليكون (SiC)

وصف هدف الطلاء من كربيد السيليكون (SiC)

هدف الطلاء من كربيد السيليكون (SiC) مصمم لإيداع أغشية رقيقة بدقة في التطبيقات الصناعية المتقدمة. يتم تصنيعه باستخدام تقنيات متطورة، ويظهر هذا الهدف استقرار حراري استثنائي، وشفافية كيميائية عالية، وأداء متسق في ظروف البلازما RF. نقاءه العالي وأشكاله القابلة للتخصيص يجعله مثاليًا لعمليات الإيداع المعقدة حيث تكون الموثوقية والتجانس أمرين حاسمين.

تطبيقات هدف الطلاء من كربيد السيليكون (SiC)

· صناعة أشباه الموصلات: يستخدم في إيداع أغشية SiC الواقية والوظيفية في الأجهزة الدقيقة.
· coatings للأغشية الرقيقة: يستخدم في إيداع أغشية دائمة وعالية الأداء للأجهزة البصرية والإلكترونية.
· أجهزة MEMS: مناسب لتصنيع الأنظمة الميكروإلكتروميكانيكية التي تتطلب أغشية رقيقة مستقرة.
· البحث والتطوير: يستخدم في إعدادات تجريبية لتطوير مواد ومكونات إلكترونية من الجيل التالي.

تعبئة هدف الطلاء من كربيد السيليكون (SiC)

يتم تعبئة أهداف الطلاء من كربيد السيليكون لدينا في حاويات محكمة الإغلاق وخالية من التلوث للحفاظ على حالتها المثالية. تتوفر خيارات تعبئة مخصصة لتناسب أحجام الطلب ومتطلبات اللوجستيات المحددة.

أسئلة شائعة

س: ما هي الصناعات التي تستخدم عادة هدف الطلاء من كربيد السيليكون؟
ج: يستخدم بشكل واسع في صناعة أشباه الموصلات، وعمليات الطلاء بالأغشية الرقيقة، وتطوير أجهزة MEMS، وكذلك في تطبيقات البحث والتطوير.

س: ما هي عملية الطلاء التي تم تصميم هذا الهدف من أجلها؟
ج: الهدف مصمم خصيصًا لعمليات الطلاء باستخدام RF، مما يضمن إيداعًا متجانسًا ومتسقًا.

س: لماذا تعتبر نقطة الانصهار العالية (~2730 درجة مئوية) مهمة؟
ج: تضمن نقطة الانصهار العالية أن الهدف يمكنه تحمل البيئات الحرارية الشديدة أثناء الطلاء، مما يحافظ على الأداء والاستقرار حتى في الظروف القصوى.

س: ما مدى تخصيص أشكال أهداف الطلاء؟
ج: يمكن تصنيع الأهداف كأقراص قياسية أو في أشكال مخصصة لتلبية احتياجات المعدات أو التطبيقات المحددة.

س: ما هي معايير الجودة التي تضمن أداء هذه الأهداف؟
ج: يتم إنتاج كل هدف بصفاء ≥99% ويخضع لإجراءات مراقبة جودة صارمة، مما يضمن أداءً موثوقًا وتجانسًا للتطبيقات الصناعية المتقدمة.