{{flagHref}}
المنتجات
  • المنتجات
  • الفئات
  • المدونة
  • البودكاست
  • التطبيق
  • المستند
|
|
/ {{languageFlag}}
اختر اللغة
Stanford Advanced Materials {{item.label}}
Stanford Advanced Materials
اختر اللغة
Stanford Advanced Materials {{item.label}}
من فضلك ابدأ بالتحدث

استهداف التبخير من نيتريد السيليكون (Si₃N₄) ST0215

رقم الكتالوج ST0215
التركيب س₃ن₄
رقم سجل دائرة المستخلصات الكيميائية 12033-89-5
النقاء ≥99%
الشكل أقراص أو أقراص مصنوعة حسب الطلب
المترادفات هدف رش نيتريد السيليكون، هدف رش نيتريد السيليكون، هدف رش نيتريد السيليكون، هدف رش السيراميك

في شركة Stanford Advanced Materials (SAM)، نصنع أهداف رش نيتريد السيليكون (Si3N4) باستخدام التلبيد بالضغط الساخن والتجهيز الدقيق. وتوصلنا هذه العملية إلى كثافة أكثر من 99% وحجم حبيبات دقيق (2-5 ميكرومتر) - وهما أمران مهمان من أجل رش الترددات اللاسلكية النظيفة والمتسقة. نيتريد السيليكون هو الحل الأمثل للطبقات العازلة الصلبة في أشباه الموصلات وأشباه الموصلات وأجهزة MEMS والطلاءات البصرية. نقوم بتخزين الأقراص القياسية من 2 بوصة إلى 6 بوصة، ونعم، نقوم بعمل أحجام مخصصة أيضًا.

المنتجات ذات الصلة: هدف الرش بأكسيد الألومنيوم (Al2O3)، وهدف الرش بأكسيد التيتانيوم (TiO2)، وهدف الرش بثاني أكسيد السيليكون (SiO2)

الاستفسار
أضف للمقارنة
وصف
المواصفات
SDS
التعليقات

FAQ

س: ما هي طريقة الاخرق الموصى بها لأهداف نيتريد السيليكون؟

أ: نيتريد السيليكون (Si3N4) هو مادة خزفية ذات مقاومة كهربائية عالية، لذا فهي تتطلب رشًا بالترددات الراديوية أو الترددات الراديوية التفاعلية (RF-R)

. لا يعد رش التيار المستمر مناسبًا لهذه المادة بسبب تراكم الشحنات على السطح المستهدف.

.

 

س: ما هو الفرق بين أهداف الاخرق Si3N4 و Si3N؟

أ: يشير كلا الترميزين إلى نيتريد السيليكون، ولكن يمكن أن تختلف القياسات التكافئية الدقيقة.يُشير Si3N4&&strong;إلى المركب التكافئي (نسبة السيليكون إلى النيتروجين 3:4). قد تستخدم بعض التطبيقات تركيبات ناقصة النيتروجين قليلاً (SiNx). يُرجى تحديد متطلباتك عند الطلب.

.

س: هل تتطلب أهداف نيتريد السيليكون الربط بلوحة دعم؟

أ: نظرًا للطبيعة الهشة للمواد الخزفية وطاقة الترددات اللاسلكية المستخدمة، نوصي عمومًا بربط أهداف Si3N4 بلوحة دعم نحاسية باستخدام الإنديوم أو المطاط الصناعي. وهذا يحسن الإدارة الحرارية ويمنع تشقق الهدف أثناء الاخرق.

س: ما هي المهلة الزمنية اللازمة لهدف رش نيتريد السيليكون المخصص؟

أ: المهلة المعتادة للأحجام المخصصة هي 3-4 أسابيع بعد تأكيد الطلب. قد يتم شحن أحجام الأقراص القياسية (2 بوصة - 6 بوصة) في وقت أقرب. اتصل بنا لمعرفة حالة المخزون الحالي.

س: هل يمكنك تقديم معدل الاخرق النموذجي لهدف Si3N4 الخاص بك؟

أ: تعتمد معدلات الاخرق على طاقة التردد اللاسلكي والضغط وتكوين النظام الخاص بك. يمكن لفريقنا الفني تقديم معدلات مرجعية وتوصيات عملية بناءً على معداتك. يرجى تضمين تفاصيل نظامك مع استفسارك.

.

ج: تعتمد معدلات الاخرق على طاقة التردد اللاسلكي والضغط وتكوين النظام الخاص بك. يمكن لفريقنا الفني تقديم معدلات مرجعية وتوصيات عملية بناءً على معداتك. يُرجى تضمين تفاصيل نظامك مع استفسارك.

أ: تعتمد معدلات الاخرق على طاقة التردد اللاسلكي والضغط وتكوين النظام الخاص بك. يمكن لفريقنا الفني تقديم معدلات مرجعية وتوصيات عملية بناءً على معداتك. يرجى تضمين تفاصيل نظامك مع استفسارك.

.

طلب عرض أسعار

أرسل لنا استفسارًا اليوم لمعرفة المزيد والحصول على أحدث الأسعار. شكرًا لك!

* اسمك
* بريدك الإلكتروني
* اسم المنتج
* هاتفك
* البلد

الإمارات العربية المتحدة

    النقاء

    99.9%

    • 99.9%
    • 99.5%
    • 99.99%
    • 99.999%
    • Other
    القطر

    2 ''؛ 3 ''؛ 4 ''؛ 5 ''؛ 6 ''؛ أخرى

    • 2 ''؛ 3 ''؛ 4 ''؛ 5 ''؛ 6 ''؛ أخرى
    • Other
    السُمك

    0.25 بوصة؛ 0.125 بوصة؛ الكل

    • 0.25 بوصة؛ 0.125 بوصة؛ الكل
    • Other
    الترابط

    نعم؛ لا

    • نعم؛ لا
    • Other
    التعليقات
    أود الاشتراك في القائمة البريدية لتلقي التحديثات من Stanford Advanced Materials.
    أرفق الرسومات:

    تخزين الملفات هنا أو

    * التحقق من الرمز
    أنواع الملفات المقبولة: PDF، png، jpg، jpeg. قم بتحميل عدة ملفات مرة واحدة؛ يجب أن يكون حجم كل ملف أقل من 2 ميغابايت.
    اترك رسالة
    اترك رسالة
    * اسمك:
    * بريدك الإلكتروني:
    * اسم المنتج:
    * هاتفك:
    * التعليقات: