هدف الرش V2O5 (أكسيد الفاناديوم) ST0200

وصف هدف ترسيب أكسيد الفاناديوم (V2O5)

يقدم هدف ترسيب أكسيد الفاناديوم (V2O5) أداءً ممتازًا لعمليات ترسيب الأفلام الرقيقة المتقدمة. يتم تصنيعه بنقاء ≥99% وتصميمه بأشكال مختلفة بما في ذلك الأقراص أو التكوينات المخصصة، يضمن هذا الهدف توزيع المواد بشكل منتظم واستقرار أثناء الترسيب بطريقة RF. خصائصه المادية الممتازة، مثل نقطة انصهار تبلغ 690℃ وكثافة تبلغ 3.36 جرام/سم³، تجعله مثاليًا لمجموعة واسعة من التطبيقات في الصناعات الإلكترونية الدقيقة، والطاقة الشمسية، وتقنية العرض.

تطبيقات هدف ترسيب أكسيد الفاناديوم (V2O5)

· صناعة أشباه الموصلات: ضروري لعمليات الترسيب RF المستخدمة في تصنيع المكونات الإلكترونية الدقيقة.
· تقنيات العرض: يستخدم في ترسيب الأفلام الرقيقة لأجهزة العرض فائقة الدقة والأجهزة البصرية.
· الطاقة الشمسية: يعزز أداء وكفاءة تصنيع خلايا الطاقة الشمسية.
· التطبيقات المتقدمة للطلاء: يوفر جودة مواد متفوقة للطلاءات البصرية وتكنولوجيا المستشعرات.

تعبئة هدف ترسيب أكسيد الفاناديوم (V2O5)

تم تعبئة أهداف ترسيب أكسيد الفاناديوم (V2O5) بعناية للحفاظ على سلامة المنتج ونقاوته أثناء التخزين والنقل.
- التعبئة محكمة الغلق بالفراغ تضمن حماية مثلى.
- خيارات التعبئة المخصصة متاحة لتلبية متطلبات العملاء المحددة.

الأسئلة الشائعة

س: ما هي فوائد استخدام هدف ترسيب أكسيد الفاناديوم (V2O5)؟
ج: يوفر نقاءً عالياً وتوحيداً، مما يضمن ترسيباً ثابتاً للأفلام الرقيقة وأداء ممتاز في عمليات الترسيب RF.

س: كيف تعمل عملية الترسيب RF مع هذا الهدف؟
ج: تستخدم عملية الترسيب RF طاقة التردد الراديوي لتوليد بلازما تطرد الجسيمات من الهدف، التي تترسب بعد ذلك على ركيزة لتشكيل طبقة رقيقة.

س: هل يمكن تصنيع الهدف في أشكال مخصصة؟
ج: نعم، بالإضافة إلى الأقراص القياسية، يمكن تخصيص الهدف لتلبية متطلبات التطبيقات المحددة.

س: كيف تؤثر كثافة المادة على عملية الترسيب؟
ج: تساهم الكثافة البالغة 3.36 جرام/سم³ في أداء ترسيب ثابت وموحد، مما يضمن إزالة مواد منتظمة أثناء الترسيب.

س: أي الصناعات تستفيد أكثر من استخدام هدف ترسيب أكسيد الفاناديوم (V2O5)؟
ج: يتم استخدامه على نطاق واسع في صناعة أشباه الموصلات، وإنتاج خلايا الطاقة الشمسية، وتقنية العرض المتقدمة، وتطبيقات الطلاء المتخصصة.