غير متوفر (غير متوفر) ST0149 أكسيد الهفنيوم (HfO2) هدف الترسيب

وصف هدف الطلاء بسبيكة أكسيد هافنيوم (HfO2)

هدف الطلاء بسبيكة أكسيد هافنيوم (HfO2) هو مادة عالية الجودة مصممة لعمليات ترسيب الطلاء الدقيقة. يتم تصنيعه باستخدام مواد خام ممتازة وتقنيات تصنيع متقدمة، ويوفر هذا الهدف أداءً متفوقًا في الميكروفابريكات الحرجة، مما يضمن معدلات ترسيب متسقة وتجانس في الفيلم. تجعل استقراره الحراري الممتاز وخصائصه العازلة منه ضروريًا في إنتاج الأجهزة الدقيقة وطبقات العزل.

تطبيقات هدف الطلاء بسبيكة أكسيد هافنيوم (HfO2)

· الإلكترونيات الدقيقة: أساسي لتطبيق طبقات العزل ذات الثابت العازل العالي في الأجهزة شبه الموصلة.
· الطلاءات السطحية: يُستخدم في هندسة السطح المتقدمة لمقاومة التآكل والطلاءات الواقية.
· الإلكترونيات البصرية: مناسب لتصنيع المكونات العازلة في تقنيات LED والشاشات.
· البحث والتطوير: مثالي للتجارب وتطوير النماذج الأولية في مختبرات علوم المواد.

تعبئة هدف الطلاء بسبيكة أكسيد هافنيوم (HfO2)

يتم تعبئة أهداف الطلاء بأكسيد هافنيوم لدينا بعناية تامة للحفاظ على سلامة المنتج أثناء المناولة والنقل.
· عادة ما تكون التعبئة محكمة الغلق بالفراغ مع خيارات للتعبئة المخصصة حسب الوزن وحلول التعبئة بالجملة وفقًا لمتطلبات العملاء.

الأسئلة الشائعة

س1. ما هو أكسيد هافنيوم (HfO₂)؟

أكسيد هافنيوم (HfO₂) هو مادة خزفية عالية الأداء ذات خصائص عازلة ممتازة. تُستخدم بشكل شائع في تطبيقات الأفلام الرقيقة نظرًا لثباتها الحراري العالي ومقاومتها لفشل العزل عند الجهد العالي. تُستخدم غالبًا في صناعات أشباه الموصلات والإلكترونيات، لا سيما في تطبيقات العوازل العالية الثابت.

س2. ما هي تطبيقات أهداف طلاء أكسيد هافنيوم (HfO₂)؟

تُستخدم أهداف الطلاء بأكسيد هافنيوم بشكل أساسي لتطبيق أفلام رقيقة من HfO₂ في تطبيقات مختلفة، مثل:

المواد العازلة ذات الثابت العالي في الأجهزة شبه الموصلة (تستخدم كعوازل بوابة في MOSFETs).

الطلاءات البصرية، مثل المرايا والطلاءات المضادة للانعكاس.

المكثفات والعوازل في الدوائر المتكاملة.

أجهزة الذاكرة، بما في ذلك DRAM وتطبيقات الذاكرة غير المتطايرة.

الإلكترونيات الدقيقة لتصنيع تقنيات الترانزستور المتقدمة.

س3. ما هي الفوائد الرئيسية لأفلام أكسيد هافنيوم (HfO₂)؟

ثابت عازل عالي (قيمة k): يتمتع HfO₂ بقيمة عازل عالي، مما يجعله مناسبًا للأجهزة الإلكترونية المminiaturized.

استقرار حراري: يستقر HfO₂ في درجات الحرارة العالية، مما يجعله مثاليًا للتطبيقات في البيئات القاسية أو العمليات عالية الحرارة.

خصائص عازلة البوابة: يوفر تيارات تسرب منخفضة، وهو أمر ضروري للترانزستورات في تكنولوجيا CMOS (أشباه الموصلات المعدنية-أكسيد-المكمل).

المرونة في أجهزة الذاكرة: يُستخدم HfO₂ في ذاكرة التبديل المقاوم (RRAM) وغيرها من تقنيات الذاكرة غير المتطايرة.