{{flagHref}}
المنتجات
  • المنتجات
  • الفئات
  • المدونة
  • البودكاست
  • التطبيق
  • المستند
|
/ {{languageFlag}}
اختر اللغة
Stanford Advanced Materials {{item.label}}
Stanford Advanced Materials
اختر اللغة
Stanford Advanced Materials {{item.label}}

ركيزة SiO2/Si مطلية بالنيكل CY3454

رقم الكتالوج CY3454
التركيب ني، SiO2، Si
النقاء >99.99%
الأبعاد 4 بوصة، 10 × 10 × 10 × 0.5 مم، أو حسب الطلب
تشطيب السطح جانب واحد مصقول
التوجيه <100> ±0.5°

ركيزة SiO2/Si المطلية بالنيكل يمكن استخدامها في مجالات النانو، والمجهر الإلكتروني الماسح (SEM)، ومجهر القوة الذرية (AFM)، وغيرهما من مجاهر المسح. شركة Stanford Advanced Materials (SAM) لديها خبرة واسعة في تصنيع وتوريد منتجات بصرية عالية الجودة.

المنتجات ذات الصلة: ركيزة SiO2/Si المطلية بالتيتانيوم, ركيزة SiO2/Si المطلية بالنحاس, شريحة السيليكون المطلية بالذهب, شريحة السيليكون المطلية بالبلاتين, شريحة السيليكون المطلية بالفضة

الاستفسار
أضف للمقارنة
وصف
المواصفات
التعليقات

طلب عرض أسعار

أرسل لنا استفسارًا اليوم لمعرفة المزيد والحصول على أحدث الأسعار. شكرًا لك!

* اسمك
* بريدك الإلكتروني
* اسم المنتج
* هاتفك
* البلد

الإمارات العربية المتحدة

    التعليقات
    أود الاشتراك في القائمة البريدية لتلقي التحديثات من Stanford Advanced Materials.
    أرفق الرسومات:

    تخزين الملفات هنا أو

    * التحقق من الرمز
    أنواع الملفات المقبولة: PDF، png، jpg، jpeg. قم بتحميل عدة ملفات مرة واحدة؛ يجب أن يكون حجم كل ملف أقل من 2 ميغابايت.
    اترك رسالة
    اترك رسالة
    * اسمك:
    * بريدك الإلكتروني:
    * اسم المنتج:
    * هاتفك:
    * التعليقات: