ST11467 هدف تيتانيوم السيليكون، هدف TiSi، هدف TiSi

رقم الكتالوج	ST11467
التركيب	TiSi
الشكل	مستديرة، مستطيلة الشكل، مخصصة
الاستمارة	الهدف
النقاء	Ti+Si: ≥99%

هدف التيتانيوم السيليكون، يتم إنتاج هدف TiSi لعمليات الرش بالرش في تطبيقات الأغشية الرقيقة. يتم تصنيعه من قبل شركة Stanford Advanced Materials (SAM)، ويتميز بتركيبة TiSi موحدة تم التحقق منها باستخدام التصوير بالموجات فوق الصوتية وقياس الملامح بالليزر. تستخدم SAM اختبارًا صارمًا للدفعات والتحليل الدقيق لتقليل الملوثات وضمان اتساق خصائص المواد. تدعم بيئة المعالجة الخاضعة للرقابة إمكانية التكرار الضرورية في تقنيات الترسيب المتقدمة.

الاستفسار

وصف

المواصفات

التعليقات

FAQ

ما هي معلمات عملية الترسيب التي يجب أخذها في الاعتبار عند استخدام هذا الهدف؟

تتطلب عملية الاخرق مع هذا الهدف تحكمًا دقيقًا في كثافة الطاقة وضغط الحجرة. وتؤثر التعديلات في طاقة التردد اللاسلكي أو التيار المستمر على تجانس الفيلم وقياس التكافؤ. يمكن أن تؤدي مراقبة درجة حرارة الركيزة إلى تحسين التصاق الفيلم.

كيف يتم التحقق من البنية المجهرية للهدف؟

يخضع الهدف لتصوير SEM وقياس الملامح بالليزر لتقييم اتساق السطح واكتشاف العيوب المحتملة. وتساعد هذه الفحوصات في الحفاظ على الاتساق أثناء عملية الاخرق وتقليل تلوث الجسيمات في الفيلم المترسب.

هل يمكن تخصيص الهدف ليتناسب مع متطلبات نظام الاخرق المحدد؟

نعم، تتوفر خيارات التخصيص للحجم والتفاوتات المسموح بها في التشغيل الآلي. يضمن تكييف هذه المعلمات التوافق مع أنظمة الترسيب المختلفة ويدعم قابلية استنساخ العملية. للحصول على خيارات التخصيص التفصيلية، يُرجى الاتصال بنا.