المنتجات
  • المنتجات
  • الفئات
  • المدونة
  • البودكاست
  • التطبيق
  • المستند
|
SDS
احصل على عرض أسعار
/ {{languageFlag}}
اختر اللغة
Stanford Advanced Materials {{item.label}}
Stanford Advanced Materials
/ {{languageFlag}}
اختر اللغة
Stanford Advanced Materials {{item.label}}

ST0334 أهداف رش أكسيد القصدير الإنديوم (ITO) ST0334

رقم الكتالوج ST0334
المواد 90٪ In2O3 بنسبة 90% + 10٪ SnO2 / 95٪ In2O3 + 5٪ SnO2
النقاء >=99.99%
رقم سجل دائرة المستخلصات الكيميائية 50926-11-9
الكثافة 7.1 جم/سم3
نقطة الانصهار 1565℃

يُستخدم هدف أكسيد القصدير الإنديوم (ITO) ، الذي يتم ترسيبه بواسطة المغنطرون أو تقنيات الرش الأخرى، في الركائز المطلية بأكسيد القصدير ITO بما في ذلك الأقطاب الكهربائية لشاشات العرض المسطحة، ولوحات اللمس الملامسة، وزجاج نوافذ السيارات الموفرة للطاقة وزجاج نوافذ المباني، والأجهزة الإلكترونية الضوئية، والألواح الشمسية، وما إلى ذلك. توفر Stanford Advanced Materials أهداف ITO عالية الجودة بأبعاد مختلفة لعملائنا.

الاستفسار
إضافة إلى القائمة
وصف
المواصفات

طلب عرض أسعار

أرسل لنا استفسارًا اليوم لمعرفة المزيد والحصول على أحدث الأسعار. شكرًا لك!

* اسمك
* بريدك الإلكتروني
* اسم المنتج
* هاتفك
* البلد

الإمارات العربية المتحدة

    النقاء

    99.9%

    • 99.9%
    • 99.5%
    • 99.99%
    • 99.999%
    • Other
    القطر

    2 ''؛ 3 ''؛ 4 ''؛ 5 ''؛ 6 ''؛ أخرى

    • 2 ''؛ 3 ''؛ 4 ''؛ 5 ''؛ 6 ''؛ أخرى
    • Other
    السُمك

    0.25 بوصة؛ 0.125 بوصة؛ الكل

    • 0.25 بوصة؛ 0.125 بوصة؛ الكل
    • Other
    الترابط

    نعم؛ لا

    • نعم؛ لا
    • Other
    التعليقات
    أرفق الرسومات:

    تخزين الملفات هنا أو

    تنسيقات الملفات المقبولة PDF، png، jpg، jpeg؛ إذا تم تحميل عدة ملفات في وقت واحد، يجب أن يكون كل ملف أصغر من 2 ميغابايت.
    * التحقق من الرمز
    اترك رسالة
    اترك رسالة
    * اسمك:
    * بريدك الإلكتروني:
    * اسم المنتج:
    * هاتفك:
    * التعليقات: