{{flagHref}}
المنتجات
  • المنتجات
  • الفئات
  • المدونة
  • البودكاست
  • التطبيق
  • المستند
|
احصل على عرض أسعار
/ {{languageFlag}}
اختر اللغة
Stanford Advanced Materials {{item.label}}
Stanford Advanced Materials
/ {{languageFlag}}
اختر اللغة
Stanford Advanced Materials {{item.label}}

غير متوفر (غير متوفر) ST0515 أكسيد الهفنيوم مع أكسيد الإيتريوم هدف التأثير، HfO2/Y2O3

رقم الكتالوج ST0515
الصيغة الكيميائية HfO2/Y2O3
النقاء 99.9%, 99.99%, 99.999%
الشكل الأقراص، والألواح، والأهداف العمودية، والأهداف المتدرجة، والمصنوعة حسب الطلب

أهداف أكسيد الهافنيوم مع أكسيد الإيتريوم متاحة بأشكال ونقاوات وأحجام وأسعار متنوعة. نحن متخصصون في إنتاج مواد الإيداع الفيزيائي للبخار (PVD) عالية النقاء مع أعلى كثافة ممكنة وأصغر متوسط أحجام حبوب للاستخدام في التطبيقات الإلكترونية، الإيداع الكيميائي للبخار (CVD)، والإيداع الفيزيائي للبخار (PVD) في التطبيقات العرضية والبصرية.

 

الاستفسار
إضافة إلى القائمة
وصف
المواصفات
التعليقات

طلب عرض أسعار

أرسل لنا استفسارًا اليوم لمعرفة المزيد والحصول على أحدث الأسعار. شكرًا لك!

* اسمك
* بريدك الإلكتروني
* اسم المنتج
* هاتفك
* البلد

الإمارات العربية المتحدة

    النقاء

    99.9%

    • 99.9%
    • 99.5%
    • 99.99%
    • 99.999%
    • Other
    القطر

    2 ''؛ 3 ''؛ 4 ''؛ 5 ''؛ 6 ''؛ أخرى

    • 2 ''؛ 3 ''؛ 4 ''؛ 5 ''؛ 6 ''؛ أخرى
    • Other
    السُمك

    0.25 بوصة؛ 0.125 بوصة؛ الكل

    • 0.25 بوصة؛ 0.125 بوصة؛ الكل
    • Other
    الترابط

    نعم؛ لا

    • نعم؛ لا
    • Other
    التعليقات
    أرفق الرسومات:

    تخزين الملفات هنا أو

    تنسيقات الملفات المقبولة PDF، png، jpg، jpeg؛ إذا تم تحميل عدة ملفات في وقت واحد، يجب أن يكون كل ملف أصغر من 2 ميغابايت.
    * التحقق من الرمز
    اترك رسالة
    اترك رسالة
    * اسمك:
    * بريدك الإلكتروني:
    * اسم المنتج:
    * هاتفك:
    * التعليقات: